Ключові слова
electron-beam, ion-plasma technological equipment высокочастотные системы электропитания
электронно-лучевое, ионно-плазменное технологическое оборудование
Як цитувати
Анотація
Рассмотрены особенности электропитания мощного электротехнологического оборудования. Показано, что преодолеть противоречивые требования к качеству электроэнергии и эффективности технологического процесса позволяет применение специализированных устройств электропитания, учитывающих характер процессов в технологическом оборудовании. Приведены результаты исследований разработанных систем электропитания различного назначения. Среди них – системы электропитания для электронно-лучевых пушек сварочных и плавильных установок мощностью до 500 кВт, источники смещения и генераторы плазмы для pvd-технологии мощностью до 20 кВт. Данные источники оснащены высокоэффекптвной защитой! от коротких замыканий, имеют улучшенное качество переходных процессов и существенно сниженный запас энергии в выходных цепях. Библ. 1.
Посилання
Martinov V.V., Rudenko Yu.V., Monzheran Yu.P. Investigation of interaction of power transistor converters with arc, plasma and beam technological loads // Pratsi Instytutu elektrodynamiky Natsionalnoi Akademii Nauk Ukrainy. - 2010. - Vol. 25. - Pp. 145-149. (Rus)
Ця робота ліцензується відповідно до Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.
Авторське право (c) 2023 Array